Etchr : Nano Satchel

Le Nano Satchel est une plateforme de dessin à montage rapide, conçue par l’artiste et designer australien Darren Yeow. Idéal pour les artistes qui utilisent différents matériels d’art, mais veulent voyager léger et croquer sur le vif. Adapté aux gauchers comme aux droitiers, ce sac permet de dessiner debout, en marchant ou assis.

Le Nano Satchel utilise un matériau extérieur en polyester déperlant, offrant une certaine résistance à l’eau. En revanche, il est moins résistant à l’eau que l’Art Satchel, le Field Case ou la gamme Slate : ces produits utilisent des matériaux et des composants plus coûteux, mieux adaptés aux conditions météo extrêmes.

Le Nano Satchel est livré avec une bande élastique porte-outils intégrée et une sangle d’épaule. Conçu pour une utilisation avec des supports A5 ou plus petits.

Dimensions extérieures :
Longueur : 26.7cm ou 10.5in
Largeur : 18.7cm ou 7.6in
Profondeur : 6.6cm ou 2.6in

Dimensions intérieures :
Longueur : 24.4cm ou 9.6in
Largeur : 16.1cm ou 6.5in
Profondeur : 3cm ou 1.2in

Poids : 0.5kgs ou 1.2lbs